리베이스가 완료 될 때 하위 스트림에서 구성되는 UCM Clearcase 구성 요소가 제거되는 이유는 무엇입니까?

Question

우리는 4 가지 구성 요소로 새로운 UCM 프로젝트를 만들었습니다. 우리는 그 자식 구성 요소가 탭의 첨가 동안 생성 스트림

은 성분 A, 성분 B, 성분 C 및 성분 D.

가정한다. 사람의

하나는 우리가 남아있는 상태에서 "구성 요소 D는"아이 스트림 구성에서 제거되는 것을 발견 분석 할 때 우리는 D.

구성 요소의 내용을 볼 수 없습니다 그 후 일부 REBASE 활동을하고있다 통합 스트림 구성에서.

어떻게 자동으로 제거 되나요? 이것을 구성에 계속 추가해야합니다. 그것은 annoyiong입니다. 이 문제를 영구적으로 해결할 방법이 있습니까?

Answer 1

그것의 결과 일 수

• 성분 의존성
• 권장 기준선 (A는 BC 기준선 권장되고 D가 (D는 다른 성분의 종속 성분으로서 열거되지 않을 경우) 리 스트림은 기본적으로 권장되는 것을 사용합니다. -recommended 또는 -baseline 사용 여부에 따라
  가

  , 합성 기준선 리베이스의 결과가 상이 할 수있다 :

는 예를 들어, cleartool rebase man page 포함한다.

예를 들어, 현상 스트림에 대한 기초 기준 부재 기준선 A1, B1 및 C1 선택 합성 기준선X1이다.

새로운베이스 라인 A2 및 A3은 상위 스트림에서 생성되고 리베이스 작업을 통해 개발 스트림에 의해 선택됩니다. 이제 개발 스트림의 기초 기준은 X1 및 A3입니다. (A3 지금 합성 기준선 X1 구성원 인 A1을 무시).

X1 
    A2 
    B1 
    C1 
A3 (override) 

그리고, 상위 스트림에서는, 새로운 합성 기준선, X2 만들어 권장된다.

이 기준선은 A2, B2 및 C2을 선택합니다.

이제 rebase -recommended 일 때 개발 기초에서 A3이 제거되었습니다.

개발 스트림을위한 새로운 기반의베이스 라인

X2 
    A2 
    B2 
    C2 

는 X2 및 회원입니다. 당신이 -baseline 옵션을 사용하여 X2에 리베이스 경우

그러나, A3는 재단에서 제거되지 않으며, 개발 스트림에 대한 새로운 기초 기준선 X2 및 A3이다.

X2 
    A2 
    B2 
    C2 
A3 (overrides A2)